清洗设备|清洗机【先导基电】
业务定位与边界
本页记录先导基电在清洗设备中的具体设备、验证和交付事实。业务边界为:单片清洗机、槽式清洗机。公司未单独披露该业务收入时,不从公司整体或宽口径分部拆分。
产品平台、工艺与制程覆盖
| 设备/平台 | 工艺作用 | 制程/应用覆盖 | 研发与量产状态 | 主要约束 |
|---|---|---|---|---|
| 1.集成电路核心装备:低能大束流、高能、中束流、超低温及CIS离子注入机 | 1.集成电路核心装备:低能大束流、高能、中束流、超低温及CIS离子注入机 | — | — | 客户名称与先进制程只按公司披露口径表述 |
| 刻蚀机、薄膜沉积设备(PVD等)、快速热处理设备、清洗机、尾气处理设备等 | 刻蚀机、薄膜沉积设备(PVD等)、快速热处理设备、清洗机、尾气处理设备等 | — | — | 客户名称与先进制程只按公司披露口径表述 |
| 2.铋材料:铋金属制品、铋化合物、铋半导体材料及Micro-TEC微型热电制冷器 | 2.铋材料:铋金属制品、铋化合物、铋半导体材料及Micro-TEC微型热电制冷器 | — | — | 客户名称与先进制程只按公司披露口径表述 |
| 3.存量房产。 | 3.存量房产。 | — | — | 客户名称与先进制程只按公司披露口径表述 |
设备平台只沿用公司披露;“覆盖某制程”“已验证”“批量订单”“出货”“装机”“验收”分别记录,不能互相替代。
客户验证、装机与订单
| 客户/项目类型 | 验证或装机阶段 | 订单与收入信号 | 披露期 | 口径限制 |
|---|---|---|---|---|
| 公司披露客户/项目 | 国内12英寸主流集成电路芯片制造厂(涵盖逻辑、存储、功率、CIS等领域),无具体名称(年报代称为客户A/1等)。 | 仅保留公司明确披露 | 2025年及以前 | 客户匿名,不反推实名 |
| 清洗机 | 见产品状态 | 新签/在手/合同负债分开 | 持续更新 | 装机、验收不等于收入 |
验证和订单是不同阶段;若年报只披露公司整体新签订单或合同负债,本页不把它们全部归属于本业务。
产能、核心部件与服务交付
| 环节/基地 | 产能或交付能力 | 核心部件 | 服务网络 | 供应风险 |
|---|---|---|---|---|
| 公司制造与交付体系 | 凯世通:上海浦东金桥研发制造基地、北京联东U谷基地;嘉芯半导体:浙江嘉善109亩研发制造基地;安徽万导:广东清远、安徽五河、湖北荆州、浙江衢州生产基地。 | 以年报披露为准 | 安装、验收与售后 | 关键部件、人员和交付周期 |
| 本业务独立口径 | 未披露则留空 | 不按公司整体反推 | 等待后续披露 | 国产化率须有公司来源 |
公司整体厂房与人员不能自动等同本业务独立产能;核心部件国产化和服务半径也须单独有证据。
经营数据与经济性
公司未按该设备子类披露收入、毛利率、装机或订单绝对值时,本模块留空。公司页的年报分产品收入结构仍保持原口径,不在连接页重新分摊。
竞争定位与国产替代
| 可比业务 | 产品与工艺 | 客户验证/装机 | 国产替代位置 | 结论与约束 |
|---|---|---|---|---|
| 清洗机【先导基电】 | 单片清洗机、槽式清洗机 | 见验证表 | 只用公司披露 | 不把研发平台写成批量替代 |
| 同 segment 其他公司业务 | 通用工艺页反向聚合 | 按相同阶段比较 | 按设备子类比较 | 国际/国内对标须同口径 |
国产替代的最小判断单元是设备子类、工艺步骤和客户验证阶段;行业格局放通用工艺页,本页只维护先导基电的具体差异。
策略、催化剂与风险
| 变量 | 当前状态 | 上行信号 | 下行信号 |
|---|---|---|---|
| 产品与验证 | catalysts:半导体设备国产替代加速;AI/HPC带来晶圆厂持续扩产需求;实控人先导科技集团半导体底层材料生态及供应链深度赋能。;risks:核心技术研发与产品迭代不及预期的风险;国际贸易摩擦及出口管制导致的供应链风险;半导体行业周期波动引发的资本开支缩减风险;铋等原材料价格剧烈波动带来的存货跌价风险。 | 验证转批量、装机扩大 | 验证延期、验收推迟 |
| 订单与交付 | 以公司披露为准 | 新签与交付同步改善 | 合同负债/库存上升但验收不足 |
催化剂与风险必须能在年报、公告或后续业绩材料中复核;先进制程与客户名称的传闻不进入事实层。
业务年表
| 年份 | 产品与制程 | 客户认证与订单 | 收入与经济性 |
|---|---|---|---|
| 2024年及以前 | 见招股书与历年年报产品记录 | 见公司披露 | 未独立披露则留空 |
| 2025年 | 按2025年报更新清洗机状态 | 区分验证/订单/装机/验收 | 不从公司整体反推 |